Cina Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. Company News

Saat ini semakin banyak industri yang perlu menggunakan gas dengan kemurnian sangat tinggi, dan banyak perusahaan mulai meneliti dan membuat katup yang digunakan untuk mengatur gas dengan kemurnian tinggi, sehingga terdapat katup pengatur tekanan.Bahan yang digunakan pada katup pengatur ini berkualitas tinggi, antara lain diafragma fitting terbuat dari Hastelloy dan seluruh badan katup terbuat dari stainless steel 316L.Pengujian berkelanjutan telah menghasilkan pengatur tekanan dengan perlengkapan VCR untuk kinerja penyegelan yang rapat, kontrol tekanan yang presisi, kontrol aliran yang presisi, persyaratan kemurnian sangat tinggi, ketahanan korosi, keandalan, dan stabilitas. Saat ini, rentang aplikasi regulator tekanan dengan kemurnian sangat tinggi juga cukup luas, dan pasar aplikasinya adalah sebagai berikut Industri semikonduktor:Industri semikonduktor memiliki persyaratan yang sangat ketat untuk gas dengan kemurnian sangat tinggi, dan regulator tekanan dengan kemurnian sangat tinggi memainkan peran kunci dalam proses pembuatan semikonduktor.Mereka digunakan untuk mengontrol dan mengatur tekanan gas dengan kemurnian tinggi (seperti nitrogen, hidrogen, argon, dll.) yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor untuk memastikan kondisi proses yang stabil dan kualitas produksi yang optimal.   Industri fotovoltaik:Dalam industri fotovoltaik (surya), regulator tekanan kemurnian sangat tinggi digunakan untuk mengontrol dan mengatur tekanan gas yang digunakan dalam proses pembuatan.Misalnya, dalam pembuatan sel surya, di mana gas digunakan untuk membersihkan dan merawat permukaan, regulator tekanan UHP memastikan pasokan gas yang konstan tersedia serta kontrol tekanan yang tepat. Farmasi dan ilmu kehidupan:Permintaan akan gas dengan kemurnian sangat tinggi juga tinggi di sektor farmasi dan ilmu hayati.Regulator tekanan UHP digunakan dalam proses farmasi untuk mengontrol dan mengatur tekanan gas untuk memastikan keamanan dan stabilitas proses farmasi.Selain itu, mereka digunakan dalam peralatan laboratorium dan untuk tujuan penelitian.   Laboratorium dan penelitian ilmiah:Regulator tekanan UHP banyak digunakan di laboratorium dan penelitian ilmiah untuk mengontrol dan mengatur tekanan gas.Baik itu di laboratorium kimia, penelitian fisika, atau ilmu material, pengatur tekanan UHP adalah peralatan penting dalam memastikan keakuratan dan keandalan proses eksperimen dan penelitian.   Regulator tekanan kemurnian sangat tinggi digunakan dalam industri semikonduktor dalam proporsi yang signifikan dari banyak pasar aplikasi.Karena proses pembuatan semikonduktor memiliki persyaratan yang sangat ketat untuk gas kemurnian tinggi, regulator tekanan kemurnian sangat tinggi memainkan peran penting dalam industri semikonduktor.Dalam proses pembuatan semikonduktor, regulator tekanan dengan kemurnian sangat tinggi digunakan untuk mengontrol dan mengatur tekanan gas dengan kemurnian tinggi (misalnya, nitrogen, hidrogen, argon, dll.) untuk memastikan kondisi proses yang stabil dan kualitas produksi yang optimal. Ada beberapa alasan mengapa regulator tekanan kemurnian sangat tinggi merupakan bagian terbesar dari industri semikonduktor: Persyaratan Gas Kemurnian Tinggi:Proses pembuatan semikonduktor membutuhkan kemurnian gas yang digunakan sangat tinggi.Kotoran atau kontaminan kecil dapat berdampak serius pada kinerja dan keandalan perangkat semikonduktor.Regulator tekanan dengan kemurnian sangat tinggi menyediakan pasokan gas dengan kemurnian tinggi, memastikan bahwa kemurnian gas tidak terpengaruh oleh kontaminasi atau kotoran.   Persyaratan Stabilitas dan Konsistensi Proses:Manufaktur semikonduktor adalah proses yang sangat akurat dan stabil di mana kontrol tekanan gas yang tepat sangat penting.Regulator tekanan ultrahigh-purity memberikan keluaran tekanan yang stabil dan penyesuaian tekanan gas yang tepat untuk memastikan konsistensi dan kontrol parameter proses semikonduktor.   Respon Cepat dan Kontrol yang Sangat Akurat:Langkah-langkah tertentu dalam proses pembuatan semikonduktor memerlukan penyesuaian tekanan gas yang cepat dalam waktu singkat, sementara pada saat yang sama membutuhkan kontrol yang sangat akurat.Regulator tekanan kemurnian sangat tinggi memenuhi persyaratan khusus ini dengan respons cepat dan kontrol presisi tinggi.   Keandalan dan keamanan:Industri semikonduktor menuntut tingkat keandalan dan keamanan tertinggi dari peralatan dan sistem.Regulator tekanan ultrahigh-purity biasanya diproduksi dengan bahan berkualitas tinggi dan proses manufaktur canggih, memberikan keandalan dan keamanan yang sangat baik untuk memenuhi persyaratan ketat industri semikonduktor.   Singkatnya, regulator tekanan kemurnian sangat tinggi banyak digunakan dalam industri semikonduktor, terutama untuk memenuhi permintaan gas dengan kemurnian tinggi, untuk memberikan kontrol proses yang stabil, untuk memastikan akurasi tinggi dan respons cepat, dan untuk memberikan persyaratan keandalan dan keamanan yang tinggi. .Fitur-fitur ini menjadikan regulator tekanan dengan kemurnian sangat tinggi sebagai perangkat kunci yang sangat diperlukan dalam proses manufaktur semikonduktor. Harga pasar saat ini dari regulator tekanan dengan kemurnian sangat tinggi sangat berbeda dari tinggi dan rendah, kualitas baik dan buruk, dan kebutuhan akan produk ini, ada yang peduli dengan harga, ada yang peduli dengan kualitas, tetapi sebagian besar perhatian masih kualitas dan harga.Merek kami adalah pabrik AFKLOK sendiri, produknya juga melakukan banyak pengujian akhirnya mendapatkan hasil yang baik, sehingga dalam harga serta kualitas kami memiliki keunggulan, kami dapat mengganti merek lain, ke depan kami juga akan menjadi lebih baik dan lebih baik.

Perbedaan antara laju aliran tinggi dan rendah dari regulator gas dengan kemurnian tinggi: Regulator aliran tinggi biasanya dirancang untuk menangani laju aliran gas yang lebih tinggi, biasanya dalam liter per menit (L/menit) atau meter kubik per jam (m³/jam).Sebaliknya, regulator aliran rendah cocok untuk rentang aliran gas yang lebih rendah, biasanya dalam mililiter per menit (mL/menit) atau liter per jam (L/jam). Desain katup pengatur tekanan untuk gas dengan kemurnian sangat tinggi： Desain Katup: Regulator aliran tinggi biasanya menggunakan katup dan saluran yang lebih besar untuk menangani aliran gas yang lebih besar.Katup ini mungkin memerlukan piston, diafragma, atau elemen kontrol fluida lain yang lebih besar untuk mencapai pengaturan aliran yang tepat.Regulator aliran rendah, di sisi lain, menggunakan katup dan saluran yang lebih kecil untuk mengakomodasi kebutuhan aliran yang lebih rendah.   Kisaran tekanan regulator tekanan gas kemurnian ultra-tinggi: Regulator aliran tinggi biasanya memiliki rentang tekanan yang lebih luas dan dapat menangani tekanan input yang lebih tinggi dan turun ke tekanan output yang lebih rendah.Regulator aliran rendah mungkin memiliki kisaran tekanan yang relatif sempit untuk tekanan masukan yang lebih rendah dan mencapai kisaran tekanan keluaran yang lebih kecil.   Dimensi Eksternal Regulator Tekanan Gas Kemurnian Ultratinggi： Karena regulator aliran tinggi diperlukan untuk menangani aliran gas yang lebih besar, mereka biasanya memiliki dimensi eksternal yang lebih besar dan bobot yang lebih berat untuk mengakomodasi dinamika fluida yang lebih besar.Sebaliknya, regulator aliran kecil bisa lebih kompak dan ringan untuk aplikasi ruang terbatas atau mobile.   Area aplikasi untuk regulator tekanan gas ultra-kemurnian tinggi： Regulator aliran tinggi umumnya digunakan dalam aplikasi yang membutuhkan laju aliran pasokan gas yang tinggi, seperti kontrol proses industri dan peralatan laboratorium besar.Regulator aliran rendah digunakan dalam aplikasi yang membutuhkan laju aliran lebih rendah dan kontrol yang lebih presisi, seperti penganalisa laboratorium, penelitian ilmiah, dll.   Prinsip Pengoperasian Regulator Tekanan Gas Kemurnian Ultratinggi： Pengurang tekanan gas kemurnian tinggi biasanya menggunakan katup yang dapat disesuaikan dan sensor tekanan.Ketika gas bertekanan tinggi memasuki peredam tekanan, katup secara otomatis menyesuaikan sakelar untuk mengurangi tekanan ke tekanan keluaran yang diinginkan berdasarkan nilai tekanan yang ditetapkan.   Secara keseluruhan, pengurang tekanan gas dengan kemurnian tinggi banyak digunakan dalam pembuatan semikonduktor, optoelektronik, industri fotovoltaik, nanoteknologi, penelitian laboratorium, dan area lain yang memerlukan gas dengan kemurnian tinggi.Mereka digunakan untuk mengontrol tekanan dan aliran gas untuk memenuhi persyaratan proses dan eksperimental tertentu.

Peralatan pengolahan gas buang dapat menangani gas yang digunakan dalam proses etsa dan proses pengendapan uap kimia di industri semikonduktor, kristal cair, dan energi surya, termasuk SiH4, SiH2Cl2, PH3, B2H6, TEOS, H2, CO, NF3, SF6, C2F6, WF6 , NH3, N2O, dan seterusnya. Metode pengolahan gas buang Sesuai dengan karakteristik pengolahan gas buang, pengolahan dapat dibagi menjadi empat jenis pengolahan: 1. Jenis pencucian air (pengobatan gas korosif) 2. Jenis pengoksidasi (berurusan dengan gas yang mudah terbakar dan beracun) 3. Adsorpsi (sesuai dengan jenis bahan adsorpsi untuk menangani gas buang yang sesuai). 4.Plasma jenis pembakaran (semua jenis gas buang dapat diolah). Setiap jenis perawatan memiliki kelebihan dan kekurangannya sendiri serta ruang lingkup penerapannya.Ketika metode perawatannya adalah pencucian air, peralatannya murah dan sederhana, dan hanya dapat menangani gas yang larut dalam air;kisaran aplikasi jenis pencucian air listrik lebih tinggi daripada jenis pencucian air, tetapi biaya operasinya tinggi;tipe kering memiliki efisiensi pengolahan yang baik, dan tidak berlaku untuk aliran gas yang mudah tersumbat atau mengalir. Bahan kimia dan produk sampingannya yang biasa digunakan dalam industri semikonduktor dapat dikategorikan menurut sifat kimianya dan kisarannya yang berbeda: 1. Gas yang mudah terbakar seperti SiH4H2, dll. 2. Gas beracun seperti AsH3, PH3, dll. 3. Gas korosif seperti HF, HCl, dll. 4. Gas rumah kaca seperti CF4, NF3, dll. Karena keempat gas di atas berbahaya bagi lingkungan atau tubuh manusia, harus dicegah emisi langsungnya ke atmosfer, sehingga pabrik semikonduktor umum dipasang dengan sistem pengolahan gas buang terpusat yang besar, tetapi sistem ini hanya pembuangan air scrubbing, jadi sifatnya aplikasi terbatas pada gas larut air jarak jauh, dan tidak dapat menangani pembagian yang selalu berubah dan halus dari gas buang proses semikonduktor.Oleh karena itu, perlu untuk memilih dan mencocokkan peralatan pengolahan gas buang yang sesuai dengan karakteristik gas yang diperoleh dari setiap proses untuk mengatasi masalah gas buang dengan cara yang kecil.Karena area kerja sebagian besar jauh dari sistem pengolahan gas buang pusat, seringkali karena karakteristik gas menyebabkan kristalisasi atau akumulasi debu di dalam pipa, mengakibatkan penyumbatan pipa yang menyebabkan kebocoran gas, dan dalam kasus yang serius, bahkan menyebabkan ledakan. , tidak dapat memastikan keselamatan kerja staf situs.Oleh karena itu, di area kerja perlu mengonfigurasi peralatan pengolahan gas buang kecil yang sesuai dengan karakteristik gas proses, untuk mengurangi gas buang yang stagnan di area kerja, untuk memastikan keselamatan personel.

Ada berbagai macam gas yang ditemukan di dalam laboratorium farmasi atau medis.Banyak yang tidak memiliki rasa, warna atau bau, sehingga sulit untuk mengetahui apakah ada kebocoran gas.Kebocoran gas dari tabung atau sistem gas pipa tetap menimbulkan serangkaian risiko yang dapat menyebabkan insiden atau bahaya yang berpotensi fatal dalam lingkungan laboratorium.   Industri farmasi adalah salah satu industri dengan pertumbuhan tercepat di dunia.Sebagian besar pendapatan penjualan yang dihasilkannya kemudian diinvestasikan kembali di bidang penelitian dan pengembangan produk baru.Penelitian dan pengembangan menggunakan berbagai gas dan peralatan khusus.Instrumen analitik seperti kromatografi gas, kromatografi cair, dan spektrometer semuanya bergantung pada tingkat pengiriman gas yang sesuai untuk beroperasi secara efektif.   Gas farmasi dan medis ini diproduksi khusus untuk industri medis, manufaktur farmasi, dan bioteknologi.Mereka sering digunakan untuk mensintesis, mensterilkan, atau melindungi proses atau produk yang berkontribusi terhadap kesehatan manusia.   Gas farmasi juga dihirup oleh pasien dalam teknik yang dikenal sebagai terapi gas.Gas yang digunakan untuk perawatan kesehatan manusia dikontrol secara ketat oleh undang-undang dan standar industri agar tidak merusak fisiologi manusia.   Gas yang ditemukan di dalam laboratorium Helium Helium (He) adalah gas yang sangat ringan, tidak berbau dan tidak berasa.Ia juga merupakan salah satu dari 6 gas mulia (helium, neon, argon, kripton, xenon, dan radon), disebut demikian karena tidak bereaksi dengan unsur lain dan karena itu tidak dapat berikatan dengan atom lain untuk membentuk senyawa kompleks.Ini memberikan profil keamanan yang kuat dan potensi penggunaan di berbagai aplikasi.Karena statusnya yang tidak reaktif, Helium sering digunakan sebagai gas pembawa di laboratorium.Helium memiliki banyak kegunaan di luar kegunaannya yang paling umum untuk mengisi balon dan perannya dalam sektor farmasi dan bioteknologi sangat berharga.Ini paling banyak digunakan di laboratorium dalam pendinginan magnet di dalam mesin MRI namun juga digunakan di berbagai bidang medis termasuk fungsi pernapasan, kardiologi, radiologi, dan kriologi.   Argon Argon (Ar) juga merupakan gas mulia dengan sifat non-reaktif.Selain penggunaannya yang terkenal pada lampu neon, terkadang juga digunakan di sektor medis dan bioteknologi.Ini adalah gas inert yang lebih disukai untuk digunakan dalam garis Schlenk dan kotak sarung tangan dalam kasus di mana nitrogen dapat bereaksi dengan reagen atau peralatan dan juga dapat digunakan sebagai gas pembawa dalam kromatografi gas dan spektrometri massa elektrospray.Dalam obat-obatan dan obat-obatan, ini juga dapat digunakan dalam kemasan di mana nitrogen dapat bertentangan dan juga dalam cryosurgery dan laser yang digunakan untuk pengelasan pembuluh darah dan memperbaiki cacat mata.   Nitrogen Meskipun bukan gas mulia seperti Helium atau Argon Nitrogen (N) juga biasa digunakan dalam industri farmasi karena sifatnya yang relatif tidak reaktif dalam berbagai proses dan aplikasi.Laboratorium terutama untuk mengontrol atmosfer untuk peralatan dan prosedur yang sangat sensitif.Gas nitrogen diterapkan untuk mengontrol kadar oksigen, kelembaban, dan suhu di peralatan laboratorium termasuk inkubator sel, kotak kering, kotak sarung tangan, dan spektrometer massa.

1. Gas apa yang cocok untuk regulator tekanan gas VCR？ Regulator tekanan gas VCR cocok untuk gas berbahaya dan sangat murni.   2. Gas berbahaya apa yang cocok untuk regulator tekanan gas VCR? Gas berbahaya umum dan informasi terkait adalah: Amonia (NH3):Amonia adalah bahan kimia umum yang banyak digunakan dalam pupuk pertanian, zat pendingin, bahan pembersih, dan proses industri. Klorin (Cl2):Klorin adalah bahan kimia yang biasa digunakan untuk desinfeksi, pemutihan, pengolahan air dan pembuatan bahan kimia lainnya. Karbon dioksida (CO2):Karbon dioksida adalah gas umum yang digunakan sebagai agen karbonasi dalam industri makanan dan minuman, serta dalam pengelasan, pemadam kebakaran, dan aplikasi industri lainnya. Hidrogen Sianida (HCN):Hidrogen sianida adalah gas yang sangat beracun yang digunakan dalam metalurgi, sintesis organik, dan pembuatan pestisida. Hidrogen Sulfida (H2S):Hidrogen sulfida adalah gas yang sangat berbau busuk dan beracun yang biasa digunakan dalam industri minyak dan gas serta proses industri lainnya. Hidrogen Klorida (HCl):Hidrogen Klorida adalah gas dengan bau yang mengiritasi dan biasa digunakan dalam pembuatan bahan kimia, pembersih logam, dan pengatur tingkat pH. Nitrogen (N2):Nitrogen adalah gas inert yang biasa digunakan untuk melindungi dan lingkungan reaksi inert, serta untuk pengurungan gas dan pengujian tekanan. Oksigen (O2):Oksigen adalah gas esensial yang biasa digunakan dalam industri medis, pemotongan gas, pengelasan dan proses pembakaran.   3. Karakteristik pengatur tekanan gas VCR？ PERATURAN AKURASI TINGGI:Regulator Tekanan Gas VCR menggunakan mekanisme pengaturan yang tepat yang memberikan pengaturan tekanan gas yang sangat akurat.Ini membuatnya berguna dalam aplikasi yang memerlukan kontrol aliran dan tekanan gas yang akurat, seperti dalam penelitian laboratorium, manufaktur presisi, dan analisis gas. Keandalan dan Stabilitas:Dirancang untuk regulasi gas stabil jangka panjang, regulator tekanan gas VCR mampu memberikan kinerja yang andal dalam berbagai kondisi pengoperasian.Mereka biasanya dibangun menggunakan bahan dan pengerjaan berkualitas tinggi untuk memastikan operasi yang andal dalam jangka waktu yang lama dan untuk meminimalkan risiko kebocoran dan kegagalan. Beberapa Opsi Koneksi:Regulator tekanan gas VCR biasanya tersedia dengan berbagai opsi sambungan untuk mengakomodasi perpipaan gas dan persyaratan sistem yang berbeda.Opsi koneksi umum termasuk fiting bersegel logam VCR, koneksi bergelang, dan koneksi berulir, membuat pemasangan dan integrasi regulator menjadi fleksibel dan mudah. Berbagai penyesuaian:Regulator tekanan gas VCR biasanya memiliki berbagai penyesuaian untuk mengakomodasi kebutuhan tekanan yang berbeda.Apakah pengaturan tekanan tinggi atau rendah diperlukan, mereka memberikan solusi yang tepat. Fitur keamanan:Regulator tekanan gas VCR seringkali dilengkapi dengan berbagai fitur keselamatan untuk memastikan pengoperasian sistem yang aman.Fitur-fitur ini dapat mencakup proteksi tekanan berlebih, proteksi arus berlebih, proteksi suhu berlebih, dan deteksi kebocoran untuk meminimalkan risiko potensi bahaya dan kecelakaan. Penyesuaian:Regulator tekanan gas VCR biasanya dapat disesuaikan, memungkinkan pengguna untuk mengatur dan menyesuaikan tekanan dengan kebutuhan khusus.Penyesuaian ini membuat regulator cocok untuk berbagai skenario aplikasi dan persyaratan proses.   4. Lingkungan tempat pengatur tekanan gas VCR dipasang？ Regulator tekanan gas VCR dipasang di ruangan bersih untuk memastikan kebersihan dan untuk membantu menjaga integritas dan kinerja regulator tekanan gas VCR.   5. Cara Kerja Regulator Tekanan Gas VCR? Saluran Masuk Gas ke Regulator:Gas memasuki pengatur tekanan gas VCR melalui saluran penghubung.Inlet biasanya terhubung ke sumber gas. Penginderaan Tekanan:Di dalam regulator terdapat elemen penginderaan tekanan, biasanya pegas atau diafragma.Saat gas memasuki regulator, elemen penginderaan tekanan dikenai tekanan gas dan menghasilkan gaya yang sesuai. Penyeimbangan Kekuatan:Kekuatan elemen penginderaan tekanan diseimbangkan dengan mekanisme pengatur di dalam regulator.Mekanisme ini biasanya terdiri dari katup pengatur dan spool. Pengoperasian Katup Pengatur:Tergantung pada kekuatan elemen penginderaan tekanan, katup pengatur akan membuka atau menutup sesuai untuk menyesuaikan tekanan gas yang mengalir melalui sistem.Ketika kekuatan elemen penginderaan tekanan meningkat, katup pengatur menutup, mengurangi aliran gas dan dengan demikian menurunkan tekanan sistem.Sebaliknya, ketika gaya pada elemen penginderaan tekanan berkurang, katup pengatur terbuka, meningkatkan aliran gas dan menaikkan tekanan sistem. Stabilisasi Tekanan:Dengan terus-menerus menyesuaikan bukaan katup, Regulator Tekanan Gas VCR mempertahankan tekanan aliran gas yang stabil melalui sistem.Regulator akan menyesuaikan secara real time sesuai kebutuhan untuk memastikan bahwa tekanan gas dalam sistem tetap berada dalam kisaran yang telah ditentukan.

Dalam fabrikasi semikonduktor, gas melakukan semua pekerjaan dan laser mendapatkan semua perhatian.Sementara laser mengetsa pola transistor ke dalam silikon, pengetsaan yang pertama kali menyimpan silikon dan memecah laser untuk membuat rangkaian lengkap adalah serangkaian gas.Tidak mengherankan jika gas-gas yang digunakan untuk mengembangkan mikroprosesor melalui proses multi-tahap ini memiliki kemurnian yang tinggi.Selain batasan ini, banyak dari mereka memiliki kekhawatiran dan batasan lain.Beberapa gas bersifat kriogenik, yang lain korosif, dan yang lainnya sangat beracun.   Secara keseluruhan, keterbatasan ini membuat sistem distribusi gas manufaktur untuk industri semikonduktor menjadi tantangan yang cukup besar.Spesifikasi material sangat menuntut.Selain spesifikasi material, larik distribusi gas adalah larik elektromekanis kompleks dari sistem yang saling berhubungan.Lingkungan tempat mereka berkumpul sangat kompleks dan tumpang tindih.Fabrikasi akhir dilakukan di lokasi sebagai bagian dari proses pemasangan.Pengelasan orbital membantu memenuhi persyaratan distribusi gas dengan spesifikasi tinggi sekaligus membuat fabrikasi di lingkungan yang sempit dan menantang menjadi lebih mudah dikelola.   Bagaimana gas digunakan dalam industri semikonduktor   Sebelum mencoba merencanakan pembuatan sistem distribusi gas, perlu dipahami setidaknya dasar-dasar pembuatan semikonduktor.Pada intinya, semikonduktor menggunakan gas untuk menyimpan padatan yang hampir mengandung unsur pada permukaan dengan cara yang sangat terkontrol.Padatan yang diendapkan ini kemudian dimodifikasi dengan memasukkan gas tambahan, laser, pengetsa kimia, dan panas.Langkah-langkah dalam proses yang luas adalah:   Deposisi: Ini adalah proses pembuatan wafer silikon awal.Gas prekursor silikon dipompa ke ruang pengendapan vakum dan membentuk wafer silikon tipis melalui interaksi kimia atau fisik.   Fotolitografi: Bagian foto mengacu pada laser.Dalam spektrum litografi ultraviolet ekstrim (EUV) yang lebih tinggi yang digunakan untuk membuat chip dengan spesifikasi tertinggi, laser karbon dioksida digunakan untuk mengetsa sirkuit mikroprosesor ke dalam wafer.   Etsa: Selama proses etsa, gas halogen-karbon dipompa ke dalam bilik untuk mengaktifkan dan melarutkan material terpilih dalam substrat silikon.Proses ini secara efektif mengukir sirkuit cetak laser ke substrat.   Doping: Ini adalah langkah tambahan yang mengubah konduktivitas permukaan tergores untuk menentukan kondisi yang tepat di mana semikonduktor bekerja.   Annealing: Dalam proses ini, reaksi antara lapisan wafer dipicu oleh peningkatan tekanan dan suhu.Pada dasarnya, ini menyelesaikan hasil dari proses sebelumnya dan membuat prosesor final di wafer.   Pembersihan Chamber dan Line: Gas yang digunakan pada langkah sebelumnya, terutama etsa dan doping, seringkali sangat beracun dan reaktif.Oleh karena itu, ruang proses dan saluran gas yang mengalirkannya perlu diisi dengan gas penetral untuk mengurangi atau menghilangkan reaksi berbahaya, dan kemudian diisi dengan gas lembam untuk mencegah masuknya gas yang mencemari dari lingkungan luar.   Sistem distribusi gas dalam industri semikonduktor seringkali rumit karena banyaknya gas berbeda yang terlibat dan kontrol aliran gas yang ketat, suhu dan tekanan yang harus dipertahankan dari waktu ke waktu.Ini semakin diperumit oleh kemurnian sangat tinggi yang diperlukan untuk setiap gas dalam proses.Gas yang digunakan pada langkah sebelumnya harus dikeluarkan dari saluran dan ruang atau dinetralkan sebelum langkah proses selanjutnya dapat dimulai.Ini berarti bahwa ada sejumlah besar saluran khusus, antarmuka antara sistem tabung yang dilas dan selang, antarmuka antara selang dan tabung dan pengatur gas dan sensor, serta antarmuka antara semua komponen dan katup yang disebutkan sebelumnya dan sistem penyegelan yang dirancang untuk mencegah kontaminasi pipa pasokan gas alam dari yang ditukar.   Selain itu, gas eksterior dan khusus ruang bersih akan dilengkapi dengan sistem pasokan gas curah di lingkungan ruang bersih dan area terbatas khusus untuk mengurangi bahaya jika terjadi kebocoran yang tidak disengaja.Mengelas sistem gas ini di lingkungan yang begitu rumit bukanlah tugas yang mudah.Namun, dengan hati-hati, perhatian terhadap detail dan perlengkapan yang tepat, tugas ini dapat diselesaikan dengan sukses.   Manufaktur sistem distribusi gas di industri semikonduktor Bahan yang digunakan dalam sistem distribusi gas semikonduktor sangat bervariasi.Mereka dapat mencakup hal-hal seperti pipa dan selang logam berlapis PTFE untuk menahan gas yang sangat korosif.Bahan yang paling umum digunakan untuk perpipaan tujuan umum dalam industri semikonduktor adalah baja tahan karat 316L - varian baja tahan karat rendah karbon.Dalam hal 316L versus 316, 316L lebih tahan terhadap korosi intergranular.Ini merupakan pertimbangan penting ketika berhadapan dengan berbagai gas yang sangat reaktif dan berpotensi mudah menguap yang dapat menimbulkan korosi pada karbon.Pengelasan baja tahan karat 316L melepaskan lebih sedikit endapan karbon.Ini juga mengurangi potensi erosi batas butir, yang dapat menyebabkan korosi pitting pada lasan dan zona yang terkena panas.   Untuk mengurangi kemungkinan korosi pipa yang menyebabkan korosi dan kontaminasi lini produk, baja tahan karat 316L yang dilas dengan gas pelindung argon murni dan rel las berpelindung gas tungsten adalah standar dalam industri semikonduktor.Satu-satunya proses pengelasan yang menyediakan kontrol yang diperlukan untuk mempertahankan lingkungan dengan kemurnian tinggi dalam pemipaan proses.Pengelasan orbital otomatis hanya menyediakan kontrol proses berulang yang diperlukan untuk menyelesaikan pengelasan dalam pembuatan sistem distribusi gas semikonduktor.Fakta bahwa kepala las orbital tertutup dapat mengakomodasi ruang yang padat dan sulit di persimpangan kompleks antara area proses merupakan keuntungan signifikan dari proses tersebut. Shenzhen Wofei Technology Co., Ltd, dengan lebih dari 10 tahun pengalaman dalam penyediaan gas industri dan khusus, bahan, sistem pasokan gas dan rekayasa gas untuk pasar semikonduktor, LED, DRAM, dan TFT-LCD, kami dapat memberi Anda bahan yang diperlukan untuk membawa produk Anda ke garis depan industri.Kami tidak hanya dapat menyediakan berbagai macam katup dan perlengkapan untuk gas khusus elektronik semi-konduktor, tetapi juga merancang pipa gas dan pemasangan peralatan untuk pelanggan kami.

Array

Array

Array

Array

Array

Karena sifatnya yang lembam, gas nitrogen dapat digunakan dalam berbagai operasi pembersihan, penutupan, dan pembilasan.Tergantung pada jenis proses yang terlibat, tingkat kemurnian nitrogen yang berbeda diperlukan untuk memenuhi kebutuhan produksi yang unik.   Apa itu Kemurnian Nitrogen?   Kemurnian nitrogen adalah persentase nitrogen yang ada dalam sampel yang diambil dari alirannya dibandingkan dengan pengotor yang ada.Nitrogen dapat diklasifikasikan sebagai kemurnian tinggi atau rendah berdasarkan rasio gas murni terhadap kontaminan seperti oksigen, uap air, karbon monoksida, dan karbon dioksida.   Klasifikasi berdasarkan konsentrasi nitrogen ini memainkan peran kunci dalam menentukan kesesuaian nitrogen untuk setiap proses industri.   Kemurnian Tinggi vs Nitrogen Kemurnian Rendah   Kemurnian sampel nitrogen ditentukan oleh persentase/konsentrasi nitrogen murni di dalamnya.Agar gas dikategorikan sebagai kemurnian tinggi, ia harus mengandung setidaknya 99,998% nitrogen, sedangkan nitrogen dengan kemurnian rendah biasanya mengandung persentase pengotor yang lebih tinggi. Nitrogen Kemurnian Tinggi   Nitrogen gas dengan konsentrasi di atas 99,998% dianggap sebagai fraksi dengan kemurnian tinggi.Nitrogen dengan kemurnian tinggi dapat dinilai dengan cara yang berbeda oleh produsen yang berbeda, tetapi sebagian besar dianggap sebagai fraksi "tingkat nol".Nitrogen kemurnian tinggi tingkat nol dikategorikan demikian karena mengandung ketidakmurnian hidrokarbon kurang dari 0,5 bagian per juta.   Karakteristik kunci lain dari nitrogen dengan kemurnian tinggi adalah:   Konsentrasi oksigen ≤ 0,5 ppm   Karbon monoksida/karbon dioksida tidak lebih dari 1,0 ppm   Kelembaban tidak lebih dari 3 ppm   Nitrogen dengan kemurnian rendah   Nitrogen dengan kemurnian 90% hingga sedikit kurang dari 99,9% dianggap kemurnian rendah.   Klasifikasi Kemurnian Nitrogen   Klasifikasi nitrogen murni dilakukan melalui sistem penilaian menggunakan angka dalam setiap tingkat kemurnian terendah.Angka pertama dari setiap tingkatan mengacu pada angka "sembilan" yang muncul di dalamnya, sedangkan angka kedua mewakili angka setelah sembilan digit terakhir.   Nilai kemurnian nitrogen dikategorikan sebagai N2.0, N3.0, N4.0, N5.0, N6.0, dan N7.0.   Apa itu nitrogen dengan kemurnian sangat tinggi?   Nitrogen dengan kemurnian sangat tinggi adalah nitrogen dengan konsentrasi 99,999% dan pengotor yang dapat diabaikan.Spesifikasi nitrogen ketat dan variasi membatalkan klasifikasi.   Gas tidak boleh mengandung lebih dari dua bagian per juta volume (ppmv) oksigen, 0,5 bagian per juta volume total hidrokarbon, dan satu bagian per juta volume kelembaban).Nitrogen umumnya digunakan untuk aplikasi ilmiah.   Apa itu nitrogen bebas oksigen?   Oksigen bebas nitrogen (OFN) didefinisikan sebagai gas nitrogen yang mengandung tidak lebih dari 0,5 bagian per juta (ppm) oksigen.Gas OFN biasanya dipertahankan pada kemurnian 99,998%.Tingkat nitrogen ini digunakan dalam penelitian ilmiah dan proses kalibrasi di mana pengotor oksigen dapat mengubah hasil atau menyebabkan hasil yang salah. Tingkat Kemurnian Nitrogen menurut Industri/Aplikasi   Seperti disebutkan di atas, konsentrasi nitrogen yang dibutuhkan untuk berbagai proses industri sangat bervariasi.Pertimbangan utama dalam memilih tingkat nitrogen adalah efek pengotor pada aplikasi yang dipilih.Kepekaan terhadap kelembapan, oksigen, dan kontaminan lainnya adalah faktor kunci yang perlu dipertimbangkan.   Nitrogen Tingkat Makanan / Nitrogen Tingkat Minuman   Nitrogen umumnya digunakan dalam berbagai tahap produksi, pengemasan, dan penyimpanan makanan/minuman.Nitrogen dalam pengemasan dan pengolahan makanan digunakan untuk mempertahankan umur simpan makanan/minuman olahan dengan menghilangkan oksidan makanan, menjaga rasa dan mencegah ketengikan.Kemurnian yang dibutuhkan untuk food grade nitrogen biasanya berkisar antara 98-99,5%.   Nitrogen Kelas Farmasi   Proses manufaktur farmasi membutuhkan kemurnian tinggi untuk mencegah kontaminasi dan perubahan produk akhir.Banyak obat-obatan membutuhkan nitrogen tingkat tinggi dengan kemurnian antara 97-99,99%.Nitrogen kemurnian tinggi hingga sangat tinggi ini digunakan untuk menutupi tangki nitrogen, wadah, dan peralatan pembuatan obat lainnya.   Nitrogen kemurnian tinggi juga digunakan dalam kemasan farmasi untuk membantu menjaga kesegaran dan mencegah kerusakan bahan aktif.   Gas nitrogen dengan kemurnian 95-99% digunakan dalam industri minyak dan gas untuk mengurangi resiko kebakaran dan ledakan selama proses berlangsung.Memasukkan tangki penyimpanan bahan kimia dan membersihkan saluran pipa dengan gas nitrogen membantu meminimalkan risiko pembakaran mendadak pada isinya.   Layanan pemeliharaan pipa sering menggunakan nitrogen bertekanan untuk proses pembersihan pipa dan penonaktifan pipa.   Kemurnian Kelas Nitrogen Industri   Beberapa aplikasi industri dan persyaratan tingkat nitrogennya diuraikan di bawah ini.   Elektronik dan Semikonduktor Manufaktur Grade Nitrogen   Persyaratan kandungan nitrogen tipikal dalam pembuatan elektronik dan semikonduktor biasanya setidaknya 99,99-99,999%.Beberapa proses seperti pembersihan komponen dan penutup perekat menggunakan konsentrasi nitrogen yang lebih rendah (95-99,5%).   Nitrogen Kelas Manufaktur Plastik   Persyaratan kadar nitrogen untuk sintesis plastik adalah 95-98% untuk pencetakan injeksi, 99,5% untuk pencetakan injeksi dengan bantuan gas, dan 98-99,5% untuk ekstrusi film tiup.   Nitrogen tingkat pemrosesan logam   Kandungan nitrogen grade pemrosesan logam sangat bervariasi, dari 95-99% untuk perlakuan panas hingga 99-99,999% untuk proses pemotongan laser.   Nitrogen tingkat pembangkit listrik   Nitrogen dalam kisaran 95-99,6% diperlukan untuk proses pembangkitan listrik seperti peniupan segel udara, lapisan ketel, peniupan pipa gas alam, dan overlay pelunakan air.